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低能离子束增强沉积装置

1998年

应用技术

成果简介

　　该成果采用蒸发束、溅射束、轰击束三束同时工作，或任意选择其中两束组合的低能离子束增强沉积工作模式。它具有超高真空靶室系统，显著地降低了残余气体元素沾污。自行研制的低能轰击离子源具有良好的工作性能，在离子能量低达50eV时，仍可获得流强较大的Ar^+、N^+、O^+ 等气体离子束，十分有利于多种新颖薄膜的合成。在该装置上进行的CAAs相变光学记录薄膜和FeN_x高饱和磁化强度薄膜合成的研究结果表...

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