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JGP240型超高真空磁控溅射超导薄膜设备

1996年 应用技术
  • 成果简介
　　磁控溅射是一门广泛应用于半导体材料等领域的一种新型薄膜制备技术。它具有成膜速度快、膜层牢固和可溅射多种材料的特点。其“低温”、“高速”两大特点是其他任何镀膜技术不能相比的。该设备由主机系统和电源控制系统组成。该设备是一台超高真空磁控溅射设备，经试用证明，已为用户创造了良好的经济效益和社会效益。...
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