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TFEL-Ⅰ型双室磁控溅射设备

1996年

应用技术

成果简介

　　该设备是电发光平板显示器件研制生产的关键设备。它通过样品的喷淋清洗、烘干、高压离子轰击、样品交接、加热、传动、靶位控制，溅射成膜等一系列工序完成整个镀膜过程。可直接用于高频溅射沉积交流薄膜电致发光（ACTFEL）中的绝缘膜。具有无油、经济、薄膜质量高、薄膜均匀性好等特点。是国内首次设计并直接应用于工业生产的溅射设备，用户反应良好。...

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