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PLD脉冲激光淀积系统

1996年

应用技术

成果简介

PLD脉冲激光镀膜是近十年来发展起来的一种新型薄膜工艺。是制备金刚石膜、类金刚石膜的最好方法。该系统采用了PLD脉冲激光淀积原理，主要由一多窗口真空反应室、衬底加热系统、多功能转靶系统、真空获得系统及相关的电源控制系统组成。由气体流量控制器控制氧气和氮气二路气体。
主要技术指标：多窗口不锈钢反应室Ф300×H300；极限真空1×10的负六次方Toqq－8×10的负七次方...

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