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非平衡磁控溅射方法沉积掺铒、镱铒共掺Al2O3薄膜

2005年 应用技术  初期阶段
  • 成果简介
一. 课题来源与背景
该课题源于辽宁省科学技术厅项目：非平衡磁控溅射方法沉积掺铒Al_2O_3薄膜。掺铒、镱铒共掺Al_2O_3薄膜是掺铒光波导放大器和光电子集成等领域研究的基础，对全光通信和光电一体化的发展有着重要的作用。
二. 技术原理及性能指标
将永久磁铁非均匀分布，使溅射靶和样品之间形成闭合非平衡场。等离子轰击镶嵌铒、镱的...
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