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水溶性光致抗蚀干膜(掩孔用)

1995年

应用技术

成果简介

　　水溶性光致抗蚀干膜（掩孔用）是适用于电子线路板掩蔽孔法制版工艺要求的配套材料。主要研究内容包括：新型成膜物（粘接剂）配方选择，光敏交联剂、引发剂、增感剂、稳定剂、变色剂合成筛选，涂布工艺装备研究，产品综合配方研究，产品稳定性研究及分析检验方法研究等等。该产品主要特点是干膜抗蚀层不仅能满足抗蚀要求，而且具有良好的韧性，使之经得起显影液及蚀刻液的机械冲击和蚀刻作用。在上百次试验基础上，确定了三种成...

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