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计算机硬盘盘基片纳米磨料CMP技术的研究

2005年

应用技术

成熟应用阶段

成果简介

　　一、目前主要使用领域的需求量及未来市场预测迄今为止，纳米级CMP抛光液是唯一的计算机硬盘基片最终抛光用料，每年全球有相当大的用量。就拿我国的深圳开发磁记录有限公司来说，其计算机硬盘盘基片产量占世界总产量的20％左右，其最终超精度抛光液消耗量为7000万元人民币/年。预计近三年内世界同类抛光液总产值将达到5～6亿元人民币/年。据专家预测到2005年计算机硬盘盘基片CMP抛光液世界全行业销售产值...

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