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真空磁控溅射镀膜玻璃

1994年 应用技术
  • 成果简介
磁控阴极溅射工艺与其他镀膜工艺相比，具有溅射沉积率高，对玻璃基体加热少的特点可在常温下进行。能生产镀膜玻璃色彩最多，品种最多，可生产热反射，低辐射或二者兼之，镀膜材料不受限制，金属合金和化合物都可以。而且通入反应溅射气体N_2或O_2可制造出与靶材不同的新的化合物所以根据用户需要可生产出蛤有不同光学性能和色彩众多的玻璃，其次在大面积厚度，均匀性可以达到百分一的精确度，这是其它工艺难以达到的...
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