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PL－180型液晶光刻机

1993年 应用技术
  • 成果简介
　　该机由大面积紫外曝光系统、机械系统及微机实时控制系统组成，主要应用于大面积液晶显示器件生产工艺中的光刻工序，也可用于半导体集成电路工作掩膜的复制及其他有关领域。该机掩膜与基片间隙可调，提高掩膜使用寿命；对栅格条纹曝光后宽度均匀一致，大视场曝光系统均匀性（实测达到±2.4%）优于国内外同类产品。机械系统中气体驱动平移式两工位工作台结构紧凑，占位空间小，定位精度高。该机具有自动互锁和故障诊断功能，...
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