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低硅（SiO_2≤10ppm）高纯氧化钇铕共沉

2001年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
低硅（SiO_2≤10ppm）高纯氧化钇铕共沉是江阴加华新材料资源有限公司独立研究开发的高新技术产品，该产品与国内共他生产企业相比，具有以下特点：
1、 分离工艺先进，纯度高，规模大；
2、 除杂工艺先进，效果好，非稀元素质量低；
3、 合成工艺先进，自动化程度国内第一；
4、 采用引进的自动化控制沉淀设备，进...
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