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单晶硅炉水垢的清洗方法

2016年 应用技术  初期阶段
  • 成果简介
　　本发明提供一种单晶硅炉水垢的清洗方法，主要解决了现有清洗方法不能彻底清洗单晶硅炉炉内所形成的水垢，或清洗时可能造成单晶硅炉内中其他材质损坏的问题。该单晶硅炉水垢的清洗方法是1]先将一定量的水放入带有超声波振荡和加热装置的储液箱，将水加热至10～60℃；2]将酸液分别缓缓加入储液箱，开启超声波进行搅拌；3]通过清洗液的高速冲刷和反应来清洗水垢等步骤处理，完全清洗掉水垢。...
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