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一种用于光刻机的光源掩模优化方法

2016年 应用技术  初期阶段
  • 成果简介
　　一种用于光刻机的光源掩模优化方法，光源由对称的子光源组成，优化方法是梯度法。计算目标函数F对光源或掩模的梯度，包含计算目标函数F对空间像的梯度及计算空间像对光源或掩模的梯度两部分。采用使目标函数F最优的阈值进行掩模二值化。本发明适用于图形误差、光刻机工艺窗口、掩模误差增强因子等多种目标函数F，得到的对称光源保证了光刻机的远心性能，减少了掩模二值化对目标函数F的损失，有效提高了光刻成像质量。...
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