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一种印刷型场发射显示器及其制作方法

2016年 应用技术  初期阶段
  • 成果简介
  本发明公开了一种印刷型场发射显示器及其制作方法,按照以下三个步骤进行:(一)制作下基板,其中又分为:a)制作栅极;b)制作绝缘介质层;c)制作SiO 2绝缘层,SiO 2绝缘层厚度为200nm;d)制作阴极;e)制作阴极发射体;f)制作支撑体。(二)制作上基板,其中又分为:A)制作黑矩阵;B)制作RGB三色荧光粉。(三)封排及老练。本发明的改进印刷型FED的制作工艺,提高了下栅极结构FED栅极...
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