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用等离子体浸没离子注入方法在材料表面形成TiO2-x薄膜的方法及其应用

2016年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
　　本发明涉及一种用等离子体浸没离子注入方法在材料表面形成TiO＃－［2－x］薄膜的方法及其应用。所述方法包括：将待沉积薄膜的材料置于等离子体浸没离子注入装置的真空室中的工作台上，在该真空室中以氧气为气氛环境，其中氧气以等离子体方式存在；以金属孤等离子体方式将钛、钛－钽或者钛－铌等离子体引入该真空室中；向工作台施加频率为500－50000赫兹的负电压脉冲，其脉冲电压幅值在0．1－10千伏，从而在材...
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