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高性能氮化镓基外延结构工艺

2016年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
映瑞光电科技(上海)有限公司作为国内领先的高端LED芯片及外延片研发制造的高新技术企业,通过自主创新,实现了外延技术的飞跃。
主要成果有三个方面:
(1)国际上率先引入物理气相沉积氮化铝薄膜(physical vapor deposition aluminum nitride, PVD AlN)。该技术在国际上仅有包括映瑞光电的几家公司采用,该技术采...
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