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盐水除硅技术在离子膜装置中的应用

2015年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
本技术采用10%～20%海盐及辅以相关工艺控制，添加三氯化铁、氢氧化钠、碳酸钠等助剂，利用硅易吸附其它带电胶体的特性，与海盐中钙镁等杂质离子形成胶体与硅复合反应，形成沉淀；并经过分离、膜过滤，使一次盐水中二氧化硅含量从10～20mg/L迅速降低到5mg/L以下，符合离子膜烧碱生产的要求。项目建成的装置运行平稳，技术可靠，延长了电解装置离子膜使用寿命，降低了生产成本，保护了环境，产生了较好的...
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