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原子层淀积电子功能材料及机理研究

2015年 基础理论
  • 成果简介
原子层淀积是一种新型的超薄材料的沉积手段，已经在45 nm以下集成电路器件工艺中有重大应用。本研究针对原子层淀积技术在电子器件中的重要应用，开展了应用于纳米MOS器件、薄膜晶体管等领域的高性能电子功能材料的工艺与材料特性研究，并对其中涉及的反应机理及反应过程开展了基础理论研究，提出了几种原子层淀积纳米超薄栅介质和界面层调控的新工艺。
本研究探索了适合高性能电子器件应用的...
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