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回转反应炉热裂解氟硅酸钠制备四氟化硅的方法

2015年 应用技术  初期阶段
  • 成果简介
本发明提供一种回转反应炉热裂解氟硅酸钠制备四氟化硅的工艺，将氟硅酸钠在200℃～300℃下在煅烧炉内干燥热处理，除去其中的水份，煅烧炉内维持负压，负压值控制在10～30mmH2O；将干燥后的氟硅酸钠送入回转反应炉，在500～900℃(物料温度)下热裂解1～2个小时，热裂解得到四氟化硅和氟化钠。产生的四氟化硅气体经过除尘、冷却、干燥、压缩、收集高纯的四氟化硅气体。本发明工艺过程反应物单一，无...
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