首页成果登记
注册 找回密码
国家科技成果网
  		•
热门搜索：  激光   高分子   石油   并网   纳米   太阳能光伏
扫描二维码关注国科网

登记 排行 政策 对接 转化 专栏
国家科技成果网 › 首页 ›成果 › 查看内容

T形栅结构的光刻方法2

2017年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
　　本发明提供了一种T形栅结构的光刻方法。其包括：在衬底表面涂布光刻胶，并进行烘烤后得到栅脚层；对栅脚层进行光刻、烘烤和显影后形成栅脚凹槽；在栅脚层及栅脚凹槽表面涂布非感光材料，并进行烘烤后得到隔离层，其中，隔离层与栅脚层在烘烤时形成交链层；对隔离层进行显影后在栅脚凹槽中形成栅脚结构；对栅脚层进行干法蚀刻得到覆盖栅脚层及交链层表面的聚合物阻挡层；在聚合物阻挡层上再次涂布光刻胶，并进行烘烤后得到栅帽...
相关成果

标签云

相关机构

关于国科网   我们的资源   我们的服务   免责声明   常见问题    软件下载    成果登记   联系我们  
Copyright 2001-2020 All Rights Reserved© 国科网 版权所有
国家科技成果信息服务平台 主管单位：科学技术部火炬高技术产业开发中心
京ICP备09035943号-33 京公网安备110401400097
在线客服系统