首页成果登记
注册 找回密码
国家科技成果网
  		•
热门搜索：  激光   高分子   石油   并网   纳米   太阳能光伏
扫描二维码关注国科网

登记 排行 政策 对接 转化 专栏
国家科技成果网 › 首页 ›成果 › 查看内容

硅中纳米孔层的形成及其应用探索

2000年 应用技术  初期阶段
  • 成果简介
该项目属离子束与硅材料相互作用及其应用的基础研究。在基础理论研究与半导体材料与器件实际应用方面均具有重要的意义。国际上的一些著名实验室相继在九十年代开展了这方面的工作。在院基础研究局的支持下，信息功能材料国家重点实验室与德国马普微结构研究所、美国密西根大学、香港城市大学等合作在国内率先开展了氢、氦离子注入形成纳米孔层及其应用的研究，以适当剂量的氢、氦离子注入硅中，经热处理，在硅中形成可控性...
相关成果

标签云

相关机构

关于国科网   我们的资源   我们的服务   免责声明   常见问题    软件下载    成果登记   联系我们  
Copyright 2001-2020 All Rights Reserved© 国科网 版权所有
国家科技成果信息服务平台 主管单位：科学技术部火炬高技术产业开发中心
京ICP备09035943号-33 京公网安备110401400097
在线客服系统