首页成果登记
注册 找回密码
国家科技成果网
  		•
热门搜索：  激光   高分子   石油   并网   纳米   太阳能光伏
扫描二维码关注国科网

登记 排行 政策 对接 转化 专栏
国家科技成果网 › 首页 ›成果 › 查看内容

G-CVD石墨烯生长系统

2015年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
目前常用的薄膜石墨烯制备方法包括轻微摩擦法或撕胶带法、加热SiC法、化学分散法和化学气相沉积法。虽然前面三种方法可以制备石墨烯，但是都存在着难以实现大规模合成，或者所制备样品质量差的问题，只有化学气相沉积法（CVD法）可以最有效地获取大尺寸高质量石墨烯薄膜，这也是目前科研界的研究热点，以及产业界的发展重点。对此我公司将使用目前世界最先进的技术开发先进石墨烯化学气相沉积设备来制取石墨烯。 <...
相关成果

标签云

相关机构

关于国科网   我们的资源   我们的服务   免责声明   常见问题    软件下载    成果登记   联系我们  
Copyright 2001-2020 All Rights Reserved© 国科网 版权所有
国家科技成果信息服务平台 主管单位：科学技术部火炬高技术产业开发中心
京ICP备09035943号-33 京公网安备110401400097
在线客服系统