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Φ200mm紫外级氟化钙单晶生长

2015年 应用技术  中期阶段
  • 成果简介
①课题来源与背景:
大尺寸紫外级氟化钙单晶是半导体工业用紫外光刻机的关键材料,在紫外波段光学成像有广泛的应用,目前国际上只有日本1家公司可以生产该类材料,鉴于此,我们在长春市科技局的大力支持下开展了该项目的研发工作。
②研究目的与意义:
研究的目的是生长在193nm处透过率大于90%的氟化钙单晶,如果将项目产品产业化,为未来我国国...
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