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CMP碱性抛光液生产技术研究及应用示范

2014年 应用技术  中期阶段
  • 成果简介
以65nm及其以下的超大规模集成电路CMP材料与工艺为主攻方向，对研发出的多种CMP抛光材料与CMP后清洗剂以及相关工艺技术进行应用示范，进行碱性纳米抛光液与清洗剂生产装备和系统优化，生产技术及工艺工程化研究，污染防护技术研究，生产条件下的碱性纳米抛光液化学性能稳定性研究，产品质量及技术指标稳定控制与生产可重复技术研究，解决极大规模集成电路平坦化碱性纳米抛光液与清洗剂的生产技术，为下阶段产...
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