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抛光装置

2014年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
本实用新型公开了一种抛光装置。其包括研磨盘，游星轮，研磨盘上设置至少两个固定套筒，每个套筒内放置一个抛光产品，套筒的尺寸与产品的尺寸相适配；产品上部设置压板。采用此种抛光装置进行研磨，每个产品的运动不受其它产品运动的影响，产品在游星轮里能够自由运动，而且对产品高度的一致性也没有要求。整个运动系统平稳、自由，研磨盘的表面几何形状易传递给产品，大大提高研磨产品表面质量和研磨一次合格率。?...
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