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热等离子体雾态气化制备薄膜的装置

2013年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
本发明公开了一种热等离子体雾态气化制备薄膜的装置，该装置包括气体供给源、超声雾化器、等离子体炬发生装置、石英管沉积反应室及其双向可调低速电机、热电偶和温控仪、铜网屏蔽罩等，本发明的装置无需抽真空设备，薄膜沉积反应均在常压进行。使用本装置时，将适当的源物质溶于水配置成先体溶液，采用超声雾化将先体雾化成液滴，用载气将雾滴输运到等离子体中，在常压沉积薄膜；本装置可使用的源物质为能溶于水或稀酸的单...
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