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超高精度掩膜版

2005年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
我司生产的大面积超高精度掩膜版的技术涉及光、机、电、物理、化学、材料等多个研究领域。它属于最新的光学直写光刻技术，是通过光学系统直接将存于电脑系统中的结构图形直接刻在表面覆有金属铬的玻璃基版上，不需要通过掩模来转换，而且它的载体是以玻璃为基板的铬层上，具有精度高、使用寿命长，面积大等特点。它很好的将物理制程和化学制程结合起了，将掩膜版的精度提高到了一个以往传统工艺无法达到的高度。
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