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高方阻细栅密栅多晶硅太阳电池

2011年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
高方阻细栅密栅多晶硅太阳电池技术是在现有生产设备和生产工艺的基础上研究开发高方阻细栅密栅多晶硅太阳电池的制备技术。该技术采用高方阻均匀发射极，扩散层的方块电阻在65Ω/□，掺杂浓度比常规扩散层低，能够降低载流子的表面复合速度，减小“死层效应”，从而提高太阳电池的短波响应，提高短路电流密度。同时采用新型正面电极银浆料，调节烧结工艺，以避免正面电极烧穿pn结。并通过增加正面电极细栅线的数目，避...
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