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超高亮度LED图衬芯片

2011年

应用技术

初期阶段

成果简介

　　从目前发展状况看，采用图形衬底技术（PSS）及与此相关的外延技术以提高器件的内量子效率和外量子效率，是有效改善芯片关键技术性能从而达到提高LED器件亮度目的的主要途径。目但前LED芯片的图形衬底技术应用比较多的是韩国和台湾地区，在国内能够自制与生产工艺相匹配的图形衬底，并应用于LED产品中的企业少之又少。为打破垄断，带动国内背光源等一系列产业的发展，上海蓝光科技有限公司自2007年开始立项开展...

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