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计算机硬磁盘基片化学机械抛光机理与技术研究

2011年 基础理论
  • 成果简介
采用负压搅拌和离子交换技术研制出高纯碱性抛光液，选用双氧水作为氧化剂，有机碱作为pH调节剂、多羟多胺作为螯合剂。通过优化浆料组分和工艺参数，抛光速率可达500nm/min以上，表面粗糙度降至埃级，可有效去除金属离子，实现其高平整、低损伤、高洁净等加工要求。据统计，目前仅国内最大的硬磁盘基片生成厂家深圳开发磁记录有限公司超精密抛光液年消耗亿元人民币，应用前景、潜在市场巨大，具有很好的经济效益...
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