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发射极钼基体表面CVD方法钨涂层的制备

2008年 应用技术
  • 成果简介
本项目为空间电源研制提供关键配套材料，为国家科技计划项目。
本项目攻克了钨涂层的定向制备和钨涂层取向的定量检测两项关键技术，首次在Φ19.3mm长800mm的钼发射极上制备长度大于400mm、厚度为150um、涂层密度大于99%TD、[110]择优取向率>60%的均匀钨涂层，并且实现钨涂层选择性沉积，制备的钨涂层具有良好的热稳定性能。首次采用背散射电子衍射技术完成发射极...
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