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等离子体浸没离子注入机

2010年

应用技术

成果简介

技术特点：
等离子体浸没离子注入技术是一项新的材料表面改性技术，其主要用于绝缘衬底上的硅（SOI）和超浅结（USL）的制造。其与传统束线离子注入相比有设备简单、成本低；可同时实现大面积注入，掺杂效率高；可实现三维复杂结构工件掺杂；掺杂能量无理论限制，能实现超低能离子掺杂。
主要指标：
1. 注入结深：≤5nm @（100eV ）；...

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