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全方位离子注入/真空电弧/磁控溅射真空镀膜设备

2009年 应用技术
  • 成果简介
当前真空表面改性技术，日益向集成化、多功能化的方向发展。本项目是在磁控溅射技术、多弧离子镀技两种镀膜方法的基础上，结合先进的全方位离子注入技术，进行等离子体复合表面改性的新技术。项目利用近年来我国防工业支持的航天飞行器表面改性技术的研究成果，结合国内外表面改性技术的最新发展，实现包括大闭环磁控溅射技术、全方位离子注入技术、弯曲电弧磁过滤技术的复合等离子体增强沉积。
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