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新型高效率低成本多晶硅太阳能电池工艺技术的研究

2010年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
　　1、借助SEM及积分式反射仪的帮助，对参与反应的化学试剂的配比进行了优化，另一方面为了控制腐蚀速度加入了一种起缓冲作用的试剂，这样不仅有效的控制了反应速度而且是硅片表面的均匀性得到了极大的改善，从根本上解决了由于腐蚀深度不一致出现的局部黑斑现象。　　目前在6寸多晶硅片上绒面的反射率加权平均值降到了20.3﹪，反射率的标准偏差小于1.5。对设备滚轮及喷淋系统的改进使得制绒工序成品率超过了99.5...
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