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射频与脉冲等离子体鞘层物理特性理论研究

2010年 基础理论
  • 成果简介
①课题来源与背景：
等离子体刻蚀技术已成为超大规模集成电路和微电机系统制造的关键技术，随着集成度的提高，微加工的质量、可控性、重复性和成本等方面都遇到了瓶颈，亟需深入、系统的认识射频等离子体鞘层的非平衡输运特性，从而提高我国在低温等离子体物理基础与应用技术研究的国际学术地位，加快掌握具有自主知识产权的刻蚀技术的进程。课题来源国家基金委。
②研究目的与...
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