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高真空非晶硅太阳能电池连续制备系统

2009年

应用技术

成果简介

设备用途：该设备主要用于非晶硅太阳能电池的研发及中试。可实现用磁控溅射的方式镀ZnO2、SnO2或金属薄膜，采用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）的方式制备PIN结，采用蒸发镀膜的方式实现蒸镀电极等功能。主要指标：1、极限真空磁控溅射及蒸发室：6×10-4PaPECVD室：6×10-4Pa进样室：3×10-2Pa3、样品尺寸：300mm×300mm4、计算机控制：可实现样品运行功能，识...

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