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非晶硅太阳电池产业化基本单元

2001年 应用技术  中期阶段
  • 成果简介
产业化基本单元采用PECVD方法，使用硅烷等气体，在一定的温度和RF功率环境中，在特定衬底上沉积完成具有各种不同性能的硅基薄膜。
该项成果填补了国内大面积（每批达到1.6平方米）薄膜沉积设备的空白。其先进性与创新性主要包括：大面积薄膜均匀性技术；气流分布均匀性技术及其他特殊设计。
该项成果的作用和意义在于为最终建立非晶硅太阳电池生产线积累了技术与经验...
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