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重掺砷硅单晶及抛光片

2005年 应用技术
  • 成果简介
重掺砷硅单晶抛光片是重要的外延衬底材料，广泛用于高端功率器件和集成电路，其中150min(6英寸)晶片是国际主流产品。该项目利用直接(CZ)法，采用新的挥发扩散掺砷方法生长了150mm重掺砷硅单晶，开发了硅片切、磨、抛、清洗、背封和检测等关键工艺；自主设计开发了安全防护和环保治理系统，形成了具有自主知识产权的成套技术。该项目生产的抛光片电阻率小于0.0035欧姆厘米，局部平整度小于1微米。该项目已...
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