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太阳级硅切割液OXSi-205

2008年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
  ①课题来源与背景:该项目是由辽宁奥克化学股份有限公司自主独立开发。
  ②技术原理及性能指标:该项目产品主要用于单晶硅等半导体材料线切割。本项目是针对硅片切割生产工艺要求和切割液产品应用性能存在的问题,在奥克国内领先的聚乙二醇技术成果及切割液产品OXSi-206的基础上,采用了自主创新的窄分布乙氧基化催化剂和独特性的乙氧基化循环系统及DCS控制技术,并采用无规聚合方式把环氧丙烷链段...
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