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无掩膜（直写式）光刻机

2008年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
该项目研究的是一种基于数字微镜阵列系统的无掩膜（直写式）光刻机，能够提供亚微米的分辨率，有较低的维护和运营成本，使用方便灵活，适合各种晶圆材料和不同晶圆尺寸、形状的要求，可广泛适用于掩膜版生产、微电子机械器件、生物芯片和光电子器件等不同应用领域。...
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