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DMD基因内含子高不稳定性与外显子缺失的相关性研究

2005年 应用技术
  • 成果简介
在临床分子水平，通过克隆位于DMD基因缺失热区中央区的第46、51号外显子缺失后形成的连接片段；对比分析了这两个连接片段的断裂点的分子结构特点，其断裂点的共同特征是均位于重复序列，这些重复序列形成的单链发夹结构，使DNA结构具有不稳定性，易于断裂并导致外显子缺失，这从临床分子水平解释了DMD基因缺失的可能机制。在序列和基因结构水平，我们对DMD 基因内含子的重复序列的计算机分析表明，重复序...
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