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Si(C)-N系薄膜的血液接触活化机理及抗凝血优化

2005年

应用技术

成果简介

本项目采用了等离子体浸没离子注入技术、等离子体化学气相沉积技术及非平衡磁控溅射技术合成出具有不同结构的Si-N、a-CN:H及a-SiNx薄膜。当N/Si＝0.6～0.8时，N 原子主要以Si－N或C－N结合进Si或C的结构网络，通过调质掺杂效应形成施主掺杂；化合物键合结构的形成可显著加大薄膜的带隙，从而阻止了荷负电的纤维蛋白原通过传出电子而致的构象变化。Si-N键或C-N键取代Si-Si...

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