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新型光学镀膜材料的制备技术及产业化

2005年 应用技术
  • 成果简介
　　研制开发特种高纯光学镀膜材料，用于制备高功率激光器的光学镀膜元件。所需研制提供的材料为特种紫外级HfO_2膜料和ZrO_2＋Y_2O_3（9:1）混合膜料。
　　本项目以初级氧化铪（含81.2%，HfO_2）为原料，采用湿法冶金过程分离铁、镍、铬等杂质，并用萃取方法深度分离锆、铪，制备紫外级氧化铪镀膜材料，其锆含量为0.36%，达到紫外级氧化铪材料对锆含量（ZrO_2＜0.5%）...
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