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光催化沉积制备担载钯膜的方法

2007年 应用技术
  • 成果简介
本发明涉及一种光催化沉积制备担载钯膜的方法，在孔径为0.1～1.0μm的多孔无机材料支撑体上涂覆具有光催化特性的无机基膜，置于以氨水和甲醇为添加剂的Pd（Ⅱ）水溶液中，用紫外光照射进行光催化反应，控制反应液pH值为3～7，温度为20～80℃。溶液中的钯离子经光反应还原成金属钯，而得担载的钯膜。基膜材料以锐钛矿型TiO_2为佳。本方法可制成片状的或管式的超薄担载钯膜，膜厚度可达0.5μm以下...
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