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应用热压印技术制作微光学元件的方法

2007年 应用技术
  • 成果简介
应用热压印技术制作微光学元件的方法，涉及光学元件制作技术；该方法制作具有多台阶或连续浮雕结构特征的微光学元件包括以下四个步骤：①应用微细加工技术制备具有表面浮雕结构的压模；②应用热压印将压模上的浮雕结构压印到基片上的聚合物上；③以聚合物结构为掩模，应用反应离子刻蚀技术在基片上获得浮雕结构；④根据制作需要按上述①～③步骤进行一次或者重复①～③步骤，直至加工完成最终的微光学元件；本方法具有工艺...
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