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一种用于去除集成电路光刻胶的清洗液

2006年 应用技术
  • 成果简介
一种用于去除集成电路光刻胶的清洗液，由复合型螯合剂、双氧水和去离子水组成；各种成分所占重量百分比为：复合型螯合剂5～10%；双氧水3～8%；去离子水为余量。复合型螯合剂为羟胺和醇胺的混合物；其混合比例为(2～10)∶1；双氧水的浓度为3～30%。本发明的优点是：该清洗液使用的螯合剂不含金属离子，不会造成金属离子污染，而对金属离子有较强的去除功能；减少了氧化物损失和硅损失；清洗液成分稳定，确...
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