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一种半导体材料表面颗粒去除的清洗液及其清洗方法

2006年 应用技术
  • 成果简介
一种半导体材料表面颗粒去除的清洗液及其清洗方法,它是由有机碱、非离子表面活性剂和纯水混合组成,其中有机碱的重量占22%~40%,表面活性剂的重量占3%~15%、纯水的重量占45%~75%;清洗方法包括:取清洗剂清洗;用去离子水超声;喷淋;烘干。本发明的优越性在于:清洗剂中选用的有机碱,能够根据结构相似相溶原理,溶解半导体材料表面的有机污染物,提高清洗剂均匀腐蚀性,保证清洗的一致性;加入了特...
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