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一种用于二氧化硅介质的抛光液及其制备方法

2006年 应用技术
  • 成果简介
一种用于二氧化硅介质的抛光液，其特征在于它是由磨料、表面活性剂、pH值调节剂、氧化剂和去离子水混合组成，其中磨料占总重量的10～50%，表面活性剂占总重量的0.01～0.6%，pH值调节剂占总重量的1～6%，氧化剂占总重量的0.01～15%，去离子水占总重量的28.4～88.98%，抛光液pH值范围为11～12，粒径为15nm～100nm。其制备方法为取料、过滤净化、搅拌、混合均匀即可。本...
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