首页成果登记
注册 找回密码
国家科技成果网
  		•
热门搜索：  激光   高分子   石油   并网   纳米   太阳能光伏
扫描二维码关注国科网

登记 排行 政策 对接 转化 专栏
国家科技成果网 › 首页 ›成果 › 查看内容

掺氟氧化硅玻璃层间绝缘膜的集成方法

2006年 应用技术
  • 成果简介
　　本发明公开了一种掺氟氧化硅玻璃层间绝缘膜的集成方法，包括以下步骤：淀积掺氟氧化硅层间绝缘膜；淀积应力范围处于-250MPa到-600MPa的等离子正四乙氧基硅烷膜；化学机械抛光平坦化，并停留在高应力等离子正四乙氧基硅烷膜中；开孔形成钨连接线；对钨层进行化学机械抛光；淀积上层金属连线层。本发明通过高应力的等离子正四乙氧基硅烷膜可以保证充分束缚掺氟氧化硅玻璃中的氟自由基，从而使上层金属连线层免受侵...
相关成果

标签云

相关机构

关于国科网   我们的资源   我们的服务   免责声明   常见问题    软件下载    成果登记   联系我们  
Copyright 2001-2020 All Rights Reserved© 国科网 版权所有
国家科技成果信息服务平台 主管单位：科学技术部火炬高技术产业开发中心
京ICP备09035943号-33 京公网安备110401400097
在线客服系统