首页成果登记
注册 找回密码
国家科技成果网
  		•
热门搜索：  激光   高分子   石油   并网   纳米   太阳能光伏
扫描二维码关注国科网

登记 排行 政策 对接 转化 专栏
国家科技成果网 › 首页 ›成果 › 查看内容

分离栅浮栅尖端的制造方法

2006年 应用技术
  • 成果简介
　　本发明公开了一种分离栅浮栅尖端的制造方法，它可以使浮栅尖端变得锐利，从而提高闪存反复擦写的次数，进而延长了闪存的使用寿命。它包括以下步骤：
　　第一步，在硅衬底表面热氧化生长一层氧化层；
　　第二步，浮栅淀积；
　　第三步，热氧化生长一层氧化物；
　　第四步，低压化学气相淀积一层氮化硅；
　　第五步，光刻定义浮栅图形和氮化硅刻蚀； <...
相关成果

标签云

相关机构

关于国科网   我们的资源   我们的服务   免责声明   常见问题    软件下载    成果登记   联系我们  
Copyright 2001-2020 All Rights Reserved© 国科网 版权所有
国家科技成果信息服务平台 主管单位：科学技术部火炬高技术产业开发中心
京ICP备09035943号-33 京公网安备110401400097
在线客服系统