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一种真空溅镀防电磁波干扰膜之不良膜面的处理方法

2006年

应用技术

成果简介

一种真空溅镀防电磁波干扰(EMI)膜之不良膜面的处理方法，其特征为：在室温条件下用喷砂机对经过真空溅镀防电磁波干扰(EMI)膜的基材上存在的不良膜面进行喷砂处理，其工作压力为0．1～0．5MPa，压力源为空压机，采用的砂材为棕刚玉，砂材尺寸可为60#～120#，通过本方法对表面进行处理完后可以重新在基材上镀膜，并且可以改善之前的不良现象。该工艺技术完全采用物理方法，无需任何化学试剂，对环境...

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